Ingénieur Métrologie & Process Control, Contrôle Dimensionnel et Virtual Metrology pour 18nm FD-SOI
    Simulation de métier
    CareerOn

    Ingénieur Métrologie & Process Control, Contrôle Dimensionnel et Virtual Metrology pour 18nm FD-SOI

    Maîtrisez les systèmes de métrologie avancée (CD-SEM, OCD, overlay) et développez un système de Virtual Metrology par Machine Learning pour la ligne 18nm FD-SOI de STMicroelectronics.

    14 heures
    Avancé
    i
    Semi-conducteurs
    Ouverte

    Profil Recherché

    Bac+5 physique, optique, microélectronique ou data science

    Passion pour la mesure de précision et la physique

    Intérêt pour l'IA appliquée à l'industrie

    Pourquoi cette simulation compte

    Construisez une expérience concrète et la confiance pour la suite.

    Description

    La métrologie est le système nerveux d'une fab semiconducteur. Chaque wafer subit 200+ mesures entre les étapes de process pour vérifier la conformité dimensionnelle, l'alignement et les propriétés des films. Sans métrologie, la fab est aveugle.

    Vous rejoignez l'équipe Metrology & Process Control de STMicroelectronics Crolles, équipée des systèmes KLA les plus avancés au monde. Votre mission : assurer le contrôle dimensionnel de la ligne 18nm FD-SOI et développer un système de Virtual Metrology (VM) utilisant le Machine Learning pour prédire les résultats de mesure à partir des données de process.

    La Virtual Metrology est le Graal de la fab : réduire le nombre de mesures physiques de 50% tout en maintenant le même niveau de contrôle → gain de throughput et réduction de coûts.

    Comment ça se passe

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    Emportez la preuve dans vos candidatures et vos entretiens.

    La simulation en action

    Découvrez comment les situations prennent vie

    FILE

    KLA Corporation

    kla.com

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    STMicroelectronics

    st.com

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    Les missions du programme

    Ouvrez une mission pour voir ce que vous allez produire

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    Aperçu du programme

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    Task 1

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    Ligne d’arrivée

    Aperçu du programme

    La métrologie est le système nerveux d'une fab semiconducteur. Chaque wafer subit 200+ mesures entre les étapes de process pour vérifier la conformité dimensionnelle, l'alignement et les propriétés des films. Sans métrologie, la fab est aveugle.

    Vous rejoignez l'équipe Metrology & Process Control de STMicroelectronics Crolles, équipée des systèmes KLA les plus avancés au monde. Votre mission : assurer le contrôle dimensionnel de la ligne 18nm FD-SOI et développer un système de Virtual Metrology (VM) utilisant le Machine Learning pour prédire les résultats de mesure à partir des données de process.

    La Virtual Metrology est le Graal de la fab : réduire le nombre de mesures physiques de 50% tout en maintenant le même niveau de contrôle → gain de throughput et réduction de coûts.

    Ce que vous allez vivre

    • Métrologie
    • SPC
    • Virtual Metrology
    • Optimisation

    Prérequis

    • Bac+5 physique, optique, microélectronique ou data science
    • Intérêt pour la métrologie et le contrôle statistique
    • Français courant, anglais technique

    Ce que disent les pairs

    Témoignages de professionnels qui ont vécu des missions équivalentes

    5.0 •4 voix d’experts
    Story
    “La métrologie représente 25% du temps de cycle d'un wafer en fab. Si nous pouvons réduire le sampling de 50% grâce à la Virtual Metrology sans perdre en contrôle, nous gagnons 12% de throughput — soit €50M de revenus additionnels par an.…”

    Dr. Antoine Danel

    Metrology Manager

    STMicroelectronics

    Story
    “La scatterométrie OCD mesure des structures de 18nm en analysant la diffraction de la lumière. C'est de la physique inverse : on modélise la structure, on simule le spectre de diffraction, et on fit le spectre mesuré. La précision atteint 0,3nm —…”

    Dr. Sandrine Leroy

    OCD Lead

    STMicroelectronics

    Story
    “La Virtual Metrology est l'avenir de la fab. Chez KLA, nous travaillons avec les top fabs du monde (TSMC, Samsung, Intel) pour développer des modèles ML qui prédisent les résultats de métrologie à partir des données FDC (Fault Detection & Classification). Le…”

    Dr. Ahmad Khan

    VP Process Control

    KLA Corporation

    Story
    “Le modèle VM que j'ai développé à Crolles prédit le CD des transistors 18nm avec une précision de ±0,4nm — comparable au CD-SEM. Nous avons réduit le sampling physique de 40% sur 3 étapes de process. C'est le début d'une révolution :…”

    Dr. Nadia Lazar

    Virtual Metrology Lead

    STMicroelectronics

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    Faites le travail, gardez la preuve.